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Real-time monitoring of atomic layer etching in Cl2/Ar pulsed gas, pulsed power plasmas by optical emission spectroscopy
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0002482
DOI
10.1116/6.0002482 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Qinzhen Hao; Pilbum Kim; Sang Ki Nam; Song-Yun Kang; Vincent M. Donnelly
出版日期：2023-04-27
求助人
www 在 2026-05-28 09:33:22 发布自福建，悬赏 10 积分
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