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 Enhancing plasma uniformity in SiH4/NH3 capacitively coupled plasmas via dielectric structure adjustment positioning adjacent to the power electrode 相关领域
多物理
材料科学
等离子体
电介质
容性耦合等离子体
电极
光电子学
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电子
等离子体处理
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等离子体驱动器
电子密度
等离子体参数
无线电频率
等离子体诊断
功率密度
GSM演进的增强数据速率
氮化物
旋转对称性
体积流量
宽禁带半导体
原子层沉积
沉积（地质）
硅
流量（数学）
原子物理学
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Sen Wang; Quan‐Zhi Zhang; Maksudbek Yusupov; You‐Nian Wang 出版日期：2025-11-04 |
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(2025-6-4)
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