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 Enhancing plasma uniformity in SiH4/NH3 capacitively coupled plasmas via dielectric structure adjustment positioning adjacent to the power electrode 相关领域
多物理
材料科学
等离子体
电介质
容性耦合等离子体
电极
光电子学
电场
氮化硅
电子
等离子体处理
温度电子
等离子体驱动器
电子密度
等离子体参数
无线电频率
等离子体诊断
功率密度
GSM演进的增强数据速率
氮化物
旋转对称性
体积流量
宽禁带半导体
原子层沉积
沉积（地质）
硅
流量（数学）
原子物理学
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Sen Wang; Quan‐Zhi Zhang; Maksudbek Yusupov; You‐Nian Wang 出版日期：2025-11-04 |
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