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 Contribution of oxygen vacancies to the phase transition and ferroelectricity of the Al:HfO2films 氧空位对Al：HfO 2薄膜相变和铁电性的贡献
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期刊：Nanotechnology 作者：X.W. Liu; Yao Lulu; Weidong Zhao; Jiawei Wang; Yonghong Cheng 出版日期：2024-06-27 |
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