| 标题 |
Inverse lithography technology: 30 years from concept to practical, full-chip reality |
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| DOI |
10.1117/1.jmm.20.3.030901
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| 其它 |
期刊:Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者:L. Pang 出版日期:2021-07-01 |
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(2025-6-4)