| 标题 |
Necking Reduction at Low Temperature in Aspect Ratio Etching of SiO2 at CF4/H2/Ar Plasma |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanomaterials 作者:Hee-Tae Kwon; In-Young Bang; Jae-Hyeon Kim; Hyeon-Jo Kim; Seong-Yong Lim; et al 出版日期:2024-01-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)