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Atomic Layer Deposition of Tantalum Oxide and Tantalum Silicate from Chloride Precursors |
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期刊:Chemical Vapor Deposition 作者:C. Adelmann; A. Delabie; Bart Schepers; L. Rodriguez; A. Franquet; et al 出版日期:2012-09-01 |
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(2025-6-4)