Improved electrical performance for 65nm node and beyond through the integration of HARP O<inf>3</inf>/TEOS oxide films for STI, PMD, and thin film applications

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标题	Improved electrical performance for 65nm node and beyond through the integration of HARP O<inf>3</inf>/TEOS oxide films for STI, PMD, and thin film applications
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/4444476/4446780/04446861...
DOI	10.1109/issm.2007.4446861 doi
其它	期刊：2007 International Symposium on Semiconductor Manufacturing 作者： Cary Ching; Harry Whitesell; Shankar Venkataraman 出版日期：2008-02-11
求助人	hh 在 2026-06-15 21:36:44 发布自北京，悬赏 10 积分
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