| 标题 |
  High dielectric constant TiO2 thin films on a Ru electrode grown at 250 °C by atomic-layer deposition 250℃Ru电极上原子层沉积高介电常数TiO2薄膜
相关领域
电介质
原子层沉积
材料科学
电极
退火（玻璃）
高-κ电介质
薄膜
金红石
锐钛矿
分析化学（期刊）
薄脆饼
化学气相沉积
纳米技术
光电子学
化学工程
复合材料
化学
物理化学
光催化
工程类
生物化学
催化作用
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Physics Letters 作者：Seong Keun Kim; Wan-Don Kim; Kyung-Min Kim; Cheol Seong Hwang; Jaehack Jeong 出版日期：2004-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
BowieHuang
shhoing
无极微光
欣慰元蝶
香蕉诗蕊
JJJ
Jared
pluto
丰知然
eric888
子车茗
star
昏睡的蟠桃
想吃螺蛳粉
hovumath
Zx_1993
小青椒
玄风
皮皮
LaTeXer
JiahaoRao
风吹麦田
一叶知秋
皖公网安备34019202002308
