Unveiling Microscopic Mechanisms of Chemical Mechanical Polishing via Multi‐Scale Theoretical Calculations

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标题	Unveiling Microscopic Mechanisms of Chemical Mechanical Polishing via Multi‐Scale Theoretical Calculations 通过多尺度理论计算揭示化学机械抛光的微观机理相关领域化学机械平面化密度泛函理论分子动力学计算机科学薄脆饼从头算抛光力场（虚构）材料科学纳米技术统计物理学计算科学计算化学化学物理人工智能量子力学复合材料
网址	https://doi.org/10.1002/jcc.70213
DOI	10.1002/jcc.70213 doi
其它	期刊：Journal of Computational Chemistry 作者：Bin Hu; Xinhuan Niu; Jiakai Zhou; Changxin Dong; Chao He; et al 出版日期：2025-08-09
求助人	dsw 在 2025-12-18 14:27:18 发布自四川，悬赏 10 积分
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