| 标题 |
 Using high-contrast salty development of hydrogen silsesquioxane for sub-10-nm half-pitch lithography 相关领域
抵抗
倍半硅氧烷氢
电子束光刻
氢氧化铵
水溶液
碱金属
材料科学
盐（化学）
平版印刷术
氢氧化钠
纳米技术
化学工程
化学
无机化学
光电子学
有机化学
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Joel K. W. Yang; Karl K. Berggren 出版日期：2007-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
BowieHuang
Twonej
无极微光
Criminology34
HOAN
专注的问寒
pluto
风清扬
蓝天
滕祥
核桃
wanci
小青椒
Ky_Mac
尉迟希望
蜀安
yznfly
spc68
sswbzh
优美紫槐
zhonglv7
tuanheqi
科研通AI6.1
CAOHOU
皖公网安备34019202002308
