Design and mask optimization toward low dose EUV exposure

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标题	Design and mask optimization toward low dose EUV exposure 相关领域极紫外光刻极端紫外线薄脆饼材料科学平版印刷术多重图案吞吐量光电子学堆栈（抽象数据类型）光刻临界尺寸光学抵抗电子工程计算机科学纳米技术物理工程类无线电信图层（电子）激光器程序设计语言
网址	https://doi.org/10.1117/12.2614268
DOI	10.1117/12.2614268 doi
其它	期刊：作者：Dongbo Xu; Werner Gillijns; Ryoung-Han Kim 出版日期：2022-05-26
求助人	莫石榴在 2026-01-05 08:52:11 发布自湖北，悬赏 20 积分
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