| 标题 |
[求助补充材料]
 Cavitation-driven nanosecond laser irradiation assisted chemical–mechanical-polishing (CMP) for atomic-scale material removal of 4H-SiC 空化驱动纳秒激光辐照辅助化学机械抛光4H-SiC原子级材料去除
相关领域
化学机械平面化
抛光
材料科学
纳秒
辐照
空化
激光器
原子单位
复合材料
光学
机械
量子力学
物理
核物理学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Optics and Laser Technology 作者：Zirui Wang; Yuguang Zhu; Peng Yang; Tianyu Zhang; Yongguang Wang; et al 出版日期：2025-06-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
OK
嘻嘻哈哈
榴莲嘎嘎
Nole
vampv
渡人舟
haodong
皖公网安备34019202002308
