| 标题 |
[求助补充材料]
 Cavitation-driven nanosecond laser irradiation assisted chemical–mechanical-polishing (CMP) for atomic-scale material removal of 4H-SiC 空化驱动纳秒激光辐照辅助化学机械抛光4H-SiC原子级材料去除
相关领域
化学机械平面化
抛光
材料科学
纳秒
辐照
空化
激光器
原子单位
复合材料
光学
机械
物理
量子力学
核物理学
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| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Optics and Laser Technology 作者：Zirui Wang; Yuguang Zhu; Peng Yang; Tianyu Zhang; Yongguang Wang; et al 出版日期：2025-06-09 |
| 求助人 | |
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