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标题
Ambipolarity Suppression of Band Gap and Gate Dielectric Engineered Novel Si0.2Ge0.8/GaAs JLTFET Using Gate Overlap Technique
利用栅极重叠技术抑制带隙和栅极电介质的双极性设计新型Si0.2Ge 0.8/GaAs JLTFET
相关领域
材料科学 双极扩散 栅极电介质 光电子学 电介质 线性 晶体管 带隙 离子 电气工程 电压 等离子体 物理 量子力学 工程类
网址
https://doi.org/10.1007/s12633-023-02624-y
DOI
10.1007/s12633-023-02624-y doi
其它 期刊：Silicon
作者：Kaushal Kumar; Ajay Kumar; Vinay Kumar; Aditya Jain; S. C. Sharma
出版日期：2023-08-18
求助人
monicaj 在 2025-08-28 00:22:27 发布，悬赏 10 积分
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