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 Improvement of optical proximity-effect correction model accuracy by hybrid optical proximity-effect correction modeling and shrink correction technique for 10-nm node process 10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型精度
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Keiichiro Hitomi; Scott Halle; Marshal Miller; Ioana Graur; Nicole Saulnier; et al 出版日期：2016-07-19 |
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