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 Advanced materials for 193 nm immersion lithography 用于193纳米浸入式微影的先进材料
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期刊：Polymers for Advanced Technologies 作者：Shiro Kusumoto; Motoyuki Shima; Yong Wang; Tsutomu Shimokawa; H. Sato; et al 出版日期：2006-01-31 |
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