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First-principles calculations of the hole-induced depassivation of SiO2/Si interface defects
空穴诱导SiO2/Si界面缺陷去钝化的第一性原理计算
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网址
https://doi.org/10.1088/1674-1056/ac3506
DOI
10.1088/1674-1056/ac3506 doi
其它 期刊：Chinese Physics B
作者：Zhuo-Cheng Hong; Pei Yao; Yang Liu; Xu Zuo
出版日期：2021-11-01
求助人
511 在 2025-05-06 19:58:37 发布自湖北，悬赏 10 积分
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