| 标题 |
  Effect of Cd/As flux ratio and annealing process on the transport properties of Cd3As2 films grown by molecular beam epitaxy Cd/As通量比和退火工艺对分子束外延生长Cd3As2薄膜输运性质的影响
相关领域
分子束外延
退火（玻璃）
材料科学
电子迁移率
外延
微观结构
分析化学（期刊）
磁电阻
薄膜
焊剂（冶金）
电阻率和电导率
光电子学
纳米技术
化学
复合材料
冶金
磁场
电气工程
物理
图层（电子）
色谱法
工程类
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Research Express 作者：Shengxi Zhang; Jian Zhang; Yan Wu; Ting Kang; Ning Li; et al 出版日期：2020-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
随风沙ZYX
GGGGA
cdercder
OK
aajhajkahna
Kao
无极微光
Nole
犹豫的大碗
dde
2052669099
十有五
skearthy
serita
cocohan
洁净松
v0id
xing_xing
hgvj
jobjobjob
皖公网安备34019202002308
