Top-Down Approach: Fabrication of Silicon Nanowires using Scanning Electron Microscope based Electron Beam Lithography Method and Inductively Coupled Plasma-Reactive Ion Etching

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标题	Top-Down Approach: Fabrication of Silicon Nanowires using Scanning Electron Microscope based Electron Beam Lithography Method and Inductively Coupled Plasma-Reactive Ion Etching
网址	https://doi.org/10.1063/1.3377829
DOI	10.1063/1.3377829 doi
其它	期刊：AIP Conference Proceedings 作者：M. N. M. Nor; U. Hashim; N. H. A. Halim; N. H. N. Hamat; Mohamad Rusop; et al 出版日期：2010-04-01
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