Norbornene and Epoxide-Substituted Silsesquioxane Photoresists with High-Sensitivity and Stability

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标题	Norbornene and Epoxide-Substituted Silsesquioxane Photoresists with High-Sensitivity and Stability 具有高灵敏度和稳定性的降冰片烯和环氧化物取代倍半硅氧烷光刻胶
网址	https://doi.org/10.1021/acsnano.5c06472
DOI	10.1021/acsnano.5c06472 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Ruisheng Zhang; Miao Li; Xinyu Lu; Qiang Li; Feng Luo; et al 出版日期：2025-10-28
求助人	cccui 在 2026-01-01 13:18:02 发布自上海，悬赏 10 积分
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