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I n s i t u study of p-type amorphous silicon growth from B2H6:SiH4 mixtures: Surface reactivity and interface effects B2H6:SiH4混合物生长p型非晶硅的原位研究:表面反应性和界面效应
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
硅
分析化学(期刊)
化学气相沉积
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单层
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期刊:Applied Physics Letters 作者:R. W. Collins 出版日期:1988-09-19 |
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