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Anisotropic etching of silicon in solutions containing tensioactive compounds
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DOI
10.1117/12.2258745 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE
作者:Irena Zubel
出版日期:2016-12-22
求助人
酷炫念柏 在 2025-10-31 20:47:56 发布自上海,悬赏 20 积分
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