| 标题 |
 A study on etching properties of quartz and silicon by a dual-frequency (60 MHz/400 kHz) capacitively coupled NF3/Ar/O2 plasma: effect of pressure 相关领域
容性耦合等离子体
材料科学
石英
蚀刻（微加工）
硅
反应离子刻蚀
等离子体
光电子学
分析化学（期刊）
感应耦合等离子体
化学
复合材料
物理
图层（电子）
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Physics D Applied Physics 作者：Ziyan Tan; C. Li; Liyue Gong; Yuning Wang; Zhang Ming-jian; et al 出版日期：2025-08-26 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
zcl
研究生end
tuanheqi
LaTeXer
Dean
昏睡的蟠桃
子车茗
彭于彦祖
小青椒
实验室
从容芮
浮游
哆啦的空间站
leaolf
淡淡的南风
贝贝
唐泽雪穗
star
带头大哥
Mathea
风清扬
GingerF
Criminology34
朝阳区李知恩
馆长
ephore
遇上就这样吧
Xiaoxiao
皖公网安备34019202002308
