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 What is the optimum exposure dose for a positive resist containing poly-functional photoactive compound? 含有多官能光活性化合物的正性抗蚀剂的最佳曝光剂量是多少？
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Peter Trefonas; Thomas Fisher; Joseph Lachowski 出版日期：1991-03-01 |
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