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Formation of Graphene–Silicon Junction by Room Temperature Reduction With Simultaneous Defects Removal
通过室温还原同时去除缺陷形成石墨烯-硅结
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网址
https://doi.org/10.1109/ted.2020.3044558
DOI
10.1109/ted.2020.3044558 doi
其它 期刊：IEEE Transactions on Electron Devices
作者：Haokun Yi; Jun Zhao; Yuyan Huang; Guodong Zhu; Yongfeng Mei; et al
出版日期：2020-12-29
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邬戎 在 2025-08-29 20:11:31 发布，悬赏 10 积分
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