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 Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. II. Experiments and model validation 用于半导体加工的层状高纵横比纳米结构中的选择性分子气相蚀刻。II.实验和模型验证
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
纳米结构
半导体
气相
纳米技术
纵横比（航空）
光电子学
化学
有机化学
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Zach Zajo; David S. L. Mui; Ji Zhu; Yusef Shari’ati; Mark Kawaguchi; et al 出版日期：2025-01-01 |
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