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 Plasma Chemical Deposition of Hydrogenated DLC Films with Different Hydrogen and sp3-Hybrid Carbon Content 不同氢和sp3-杂化碳含量的氢化DLC薄膜的等离子体化学沉积
相关领域
氢
碳纤维
化学工程
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期刊：Semiconductors 作者：А. И. Охапкин; М. Н. Дроздов; P. A. Yunin; S. A. Kraev; D.B. Radishev 出版日期：2024-01-01 |
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