Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of TiAlN: Compositional and Optoelectronic Tunability

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标题	Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of TiAlN: Compositional and Optoelectronic Tunability 等离子体增强TiAlN原子层沉积：成分和光电可调谐性相关领域材料科学原子层沉积锡光电子学氮化钛纳米复合材料结晶度电介质图层（电子）椭圆偏振法薄膜氮化物钛沉积（地质）异质结复合材料纳米技术冶金生物古生物学沉积物
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.8b21461
DOI	10.1021/acsami.8b21461 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Nari Jeon; Ian V. Lightcap; David J. Mandia; Alex B. F. Martinson 出版日期：2019-03-01
求助人	言一在 2025-05-25 11:18:57 发布自四川，悬赏 10 积分
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