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  A microscopic mechanism of dielectric breakdown in SiO2 films: An insight from multi-scale modeling SiO2薄膜介电击穿的微观机理：多尺度模拟的研究
相关领域
介电强度
随时间变化的栅氧化层击穿
电介质
材料科学
无定形固体
原子单位
化学物理
机制（生物学）
凝聚态物理
统计物理学
化学
栅氧化层
电压
物理
光电子学
结晶学
量子力学
晶体管
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| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：Andrea Padovani; David Gao; Alexander L. Shluger; Luca Larcher 出版日期：2017-04-17 |
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