| 标题 |
 Polishing mechanisms of various surfactants in chemical mechanical polishing relevant to cobalt interconnects 钴互连线化学机械抛光中不同表面活性剂的抛光机理
相关领域
化学机械平面化
抛光
材料科学
薄脆饼
Zeta电位
互连
磨料
泥浆
粒子（生态学）
纳米技术
复合材料
化学工程
纳米颗粒
计算机科学
计算机网络
海洋学
地质学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：The international journal of advanced manufacturing technology/International journal, advanced manufacturing technology 作者：Lifei Zhang; Shuhui Wang; Tongqing Wang; Xinchun Lu 出版日期：2023-09-07 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
gjww
坚强的广山
酸化土壤改良
SOLOMON
shinysparrow
互助遵法尚德
沫豆
从容芮
捉迷藏
wangjingli666
xyz
centlay
amateur
Maestro_S
天才小能喵
小尹同学
完美世界
寻道图强
个性的紫菜
面向杂志编论文
皖公网安备34019202002308
