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Phase defect inspection for patterned EUV mask based on photoelectron microscopy |
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10.1364/ao.603679
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| 其它 |
期刊:Applied Optics 作者:Yanxing Liu; Bochao Li; Weipeng Zhang; Jiawei Li; Hanzhi Zhang; et al 出版日期:2026-07-15 |
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(2025-6-4)