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 光产酸剂及光刻工艺对KrF光刻胶性能影响研究 |
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摘要：光刻胶又被称为光致抗蚀剂,是制造半导体器件基材上的光敏保护膜,具有抗刻蚀性能。本论文研究了不同结构的光产酸剂(Photo Acid Generator,PAG)、光刻胶配方中其他原材料、光刻工艺对KrF光刻胶的性能影响,具体内容如下:(1)不同光产酸剂对光刻胶性能影响离子型锍鎓盐类PAG与非离子型PAG的溶解性、热稳定性、紫外吸收作对比,选出适合用在KrF光刻胶中的三种PAG,将选出的三种PAG配成目标厚度为500 nm的光刻胶。探究三种PAG对光刻胶的粘度、膜厚、感度、对比度、透过率、溶解度等基本性能的影响。结果表明:不同结构的PAG对光刻胶粘度、膜厚没有明显影响;PAG-2的产酸率、酸扩散长度、光刻胶溶解度值都高于另外两种PAG,所以使用PAG-2配成的光刻胶敏感度较高,但也因此PAG-2配成的光刻胶对比度与工艺窗口值较小;三款光刻胶中对比度值最好的是PAG-3配成的光刻胶,但因为产酸较低,光刻胶敏感度较差;相比而言PAG-1产酸适中,配成的光刻胶敏感度、对比度较好,工艺窗口值最佳。(2)配方工艺对光刻胶性能的影响改变光刻胶配方中PAG种类的使用通过光刻胶基本性能数据不能明确哪种P...更多 关键词： KrF光刻胶;化学增幅型;光产酸剂;光刻工艺; 专辑： 信息科技 专题： 无线电电子学 DOI： 10.26939/d.cnki.gbhgu.2022.000780 分类号： TN407 导师： 聂俊; 方书农; 学科专业： 化学工程（专业学位） |
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