Fabrication of the low-k films with tunable k value as spacers in advanced CMOS technology

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标题	Fabrication of the low-k films with tunable k value as spacers in advanced CMOS technology 相关领域材料科学制作退火（玻璃）原子层沉积电介质泄漏（经济）硅烷电容高-κ电介质等离子体纳米技术 CMOS芯片分析化学（期刊）光电子学薄膜复合材料化学电极有机化学物理化学量子力学经济病理宏观经济学替代医学物理医学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003357
DOI	10.1116/6.0003357 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Lewen Qian; Xin Sun; Tao Liu; Ziqiang Huang; Xinlong Guo; et al 出版日期：2024-02-29
求助人	fqlpeter 在 2026-06-10 10:18:06 发布自广东，悬赏 10 积分
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