Modeling and simulation of plasma etching reactors for microelectronics

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标题	Modeling and simulation of plasma etching reactors for microelectronics
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060909...
DOI	10.1016/s0040-6090(99)01056-1 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Demetre J Economou 出版日期：2002-07-26
求助人	乌鸡国国王在 2026-04-20 20:49:52 发布自山东，悬赏 10 积分
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11秒前; 禹宛白发布了新的文献求助10

14秒前; 提纳里发布了新的文献求助10

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4分钟前; 张思佳完成签到，获得积分10

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5分钟前; ChatGPT发布了新的文献求助10

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5分钟前; 星辰大海的应助被科研通管家采纳，获得10

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6分钟前; 科研通AI6.3的应助被研友_ndDGVn采纳，获得10

6分钟前; 唠叨的绣连完成签到，获得积分10

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6分钟前; 儒雅的月光完成签到，获得积分10

6分钟前; 汉堡包上传了应助文件

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7分钟前