N-Polar GaN HEMTs in a High-Uniformity 100-mm Wafer Process With 43.6% Power-Added Efficiency and 2 W/mm at 94 GHz

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标题	N-Polar GaN HEMTs in a High-Uniformity 100-mm Wafer Process With 43.6% Power-Added Efficiency and 2 W/mm at 94 GHz
网址	https://doi.org/10.1109/lmwt.2023.3263058
DOI	10.1109/lmwt.2023.3263058 doi
其它	期刊：作者：Andrea Arias-Purdue; Petra Rowell; Casey M. King; Andrew D. Carter; A. Paniagua; et al 出版日期：2023-04-10
求助人	LWK1995 在 2026-09-29 10:22:11 发布自广东，悬赏 10 积分
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