Source-position-dependent transmission cross coefficient formula including polarization and mask three-dimensional effects in high-numerical-aperture extreme ultraviolet lithography

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标题	Source-position-dependent transmission cross coefficient formula including polarization and mask three-dimensional effects in high-numerical-aperture extreme ultraviolet lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.25.3.031604
DOI	10.1117/1.jmm.25.3.031604 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Hiroyoshi Tanabe; Moe Sugiyama; Masayuki Shimoda; Atsushi Takahashi 出版日期：2026-05-04
求助人	俊逸三德在 2026-10-22 17:14:21 发布自上海，悬赏 20 积分
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