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 Dry development for a directed self-assembly lithography hole-shrink process using CO / H 2 plasma CO/H2等离子体定向自组装光刻缩孔工艺的干法显影
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蚀刻（微加工）
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Mitsuhiro Omura; Takahiro Imamura; Hiroshi Yamamoto; Itsuko Sakai; Hisataka Hayashi 出版日期：2015-10-28 |
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