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Communication—Effect of Hydrogen Water on Ceria Abrasive Removal in Post-CMP Cleaning
CMP后清洗中氢水对二氧化铈磨料去除的影响
相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
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期刊:ECS journal of solid state science and technology 作者:Seok‐Jun Hong; Sang-Hyeon Park; Chaitanya Kaluram Kanade; Jaewon Lee; Pengzhan Liu; et al 出版日期:2020-05-13 |
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