High‐κ dielectric (HfO2)/2D Semiconductor (HfSe2) Gate Stack for Low‐Power Steep‐switching Computing Devices

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标题	High‐κ dielectric (HfO2)/2D Semiconductor (HfSe2) Gate Stack for Low‐Power Steep‐switching Computing Devices 用于低功耗陡开关计算器件的高κ介电（HfO2）/2D半导体（HfSe2）栅堆
网址	https://doi.org/10.1002/adma.202312747
DOI	10.1002/adma.202312747 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：Taeho Kang; Joonho Park; Hanggyo Jung; Haeju Choi; Sang‐Min Lee; et al 出版日期：2024
求助人	小五在 2024-03-29 21:15:35 发布自福建，悬赏 10 积分
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