Chemical Mechanical Polishing (CMP) in Magnetic Float Polishing (MFP) of Advanced Ceramic (Silicon Nitride) and Glass (Silicon Dioxide)

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标题	Chemical Mechanical Polishing (CMP) in Magnetic Float Polishing (MFP) of Advanced Ceramic (Silicon Nitride) and Glass (Silicon Dioxide)
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.202-203.1
DOI	10.4028/www.scientific.net/kem.202-203.1 doi
其它	期刊：Key Engineering Materials 作者：M. Jiang; R. Komanduri 出版日期：2001-06-01
求助人	1433223 在 2026-08-28 14:13:37 发布自天津，悬赏 30 积分
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