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Atomic layer deposited Mo2N thin films using Mo(CO)6 and NH3 plasma as a Cu diffusion barrier
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网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2020.158314
AI链接 sciencedirect.comdoi.org
DOI
10.1016/j.jallcom.2020.158314 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Yonghwan Joo; Dip K. Nandi; Rahul Ramesh; Yujin Jang; Jong‐Seong Bae; et al
出版日期：2020-12-16
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