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 Epitaxy of high-quality antiferromagnetic metal chromium nitride films with 90° and 40° off-axis magnetron sputtering 90°和40°离轴磁控溅射外延高质量反铁磁金属氮化铬薄膜
相关领域
材料科学
氮化铬
溅射沉积
反铁磁性
铬
外延
氮化物
溅射
金属
光电子学
冶金
薄膜
凝聚态物理
复合材料
纳米技术
物理
图层（电子）
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求正式发表版本
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| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Zhiliang Xu; Rongjing Zhai; Jiachang Bi; Ruyi Zhang; Congqin Ning; et al 出版日期：2025-04-11 |
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