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 Atomic layer deposition process with TiF_4 as a precursor for depositing metal fluoride thin films 以TiF_4为前驱体沉积金属氟化物薄膜的原子层沉积工艺
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期刊：Applied Optics 作者：Tero Pilvi; Mikko Ritala; Markku Leskelä; Martin Bischoff; Ute Kaiser; et al 出版日期：2008-02-14 |
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