| 标题 |
The correlation of the drain-source capacitance variation and the P-pillar structures in a 4H-SiC quasi super junction MOSFET 4H-SiC准超结MOSFET漏源电容变化与P柱结构的相关性
相关领域
MOSFET
材料科学
电容
下降(电信)
耗尽区
平面的
信道长度调制
晶体管
凝聚态物理
半导体
光电子学
电气工程
电压
物理
电极
计算机图形学(图像)
工程类
量子力学
计算机科学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Ruei-Ci Wu; Kung‐Yen Lee; Yu Wen; Pei‐Chun Liao 出版日期:2024-04-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|