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  Investigation of the growth kinetics of glow-discharge hydrogenated amorphous silicon using a radical separation technique 用自由基分离技术研究辉光放电氢化非晶硅的生长动力学
相关领域
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Akihisa Matsuda; Kazunobu Tanaka 出版日期：1986-10-01 |
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