| 标题 |
 Atom Migration and Chemical Action in Chemical Mechanical Polishing CVD Diamond: a Molecular Dynamics Approach 相关领域
化学机械平面化
钻石
材料科学
抛光
磨料
分子动力学
缩进
化学物理
化学键
氧化剂
表面粗糙度
Atom（片上系统）
机械化学
化学反应
纳米技术
原子力显微镜
溶解
化学过程
表面光洁度
纳米压痕
化学种类
摩擦学
人造金刚石
表面改性
金刚石工具
润滑
机制（生物学）
化学工程
化学状态
氮化物
位错
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：International Journal of Precision Engineering and Manufacturing 作者：Jianhui Zhu; Hang Gao; Zewei Yuan; Yuchun Xu; Ningchang Wang; et al 出版日期：2025-12-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
凌凌
cdercder
水煮电吹风
欧克
无极微光
学术文献互助
v0id
Kao
GingerF
DOC_XIONG
唠叨的大门
Criminology34
DW
铁锤牛马版
OK
七听
dew
YifanWang
Loscipy
渡人舟
皖公网安备34019202002308
