| 标题 |
Design of a high-numerical-aperture extreme ultraviolet lithography illumination system |
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| DOI |
10.1364/ao.57.005673
doi
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期刊:Appl Opt 作者:Jiang J, Li Y, Shen S, Mao S 出版日期:2018-07-01 |
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(2025-6-4)