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[高分]
  Process characterization for LPCVD TEOS-ozone based SiO2 films 相关领域
化学气相沉积
臭氧
表征（材料科学）
材料科学
过程（计算）
化学工程
纳米技术
化学
有机化学
计算机科学
工程类
操作系统
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期刊：Journal de Physique IV (Proceedings) 作者：L. Zanotti; S. Rojas; Ferruccio Doghieri; F. Santarelli 出版日期：1993-08-01 |
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