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Selective etching of SiN against SiO2 and poly-Si films in hydrofluoroethane chemistry with a mixture of CH2FCHF2, O2, and Ar
氢氟乙烷化学中SiN对SiO2和多晶硅膜的选择性刻蚀
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期刊:Applied surface science 作者:Shih‐Nan Hsiao; Kenji Ishikawa; Toshio Hayashi; Jiwei Ni; Takayoshi Tsutsumi; et al 出版日期:2021-03-01 |
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