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 Acid–Base Reaction-Assisted Quantum Dot Patterning via Ligand Engineering and Photolithography 基于配体工程和光刻的酸碱反应辅助量子点图案化
相关领域
光刻
材料科学
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Jung Ho Bae; Suhyeon Kim; Jungkyu Ahn; Chanho Shin; Byung Ku Jung; et al 出版日期：2022-10-18 |
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