Designing Resists for Nanoimprint Lithography Enabling Functional Patterning†

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标题	Designing Resists for Nanoimprint Lithography Enabling Functional Patterning†
网址	https://doi.org/10.1002/cjoc.70427
DOI	10.1002/cjoc.70427 doi
其它	期刊：Chinese Journal of Chemistry 作者：Haomin Yu; Muhuan Xu; Wen‐Cong Xu; Shuofeng Liang; Si Wu 出版日期：2026
求助人	Henry 在 2026-02-22 18:21:14 发布自广东，悬赏 10 积分
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